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    Titel:

    Effect of ozone concentration on silicon surface passivation by atomic layer deposited Al2O3

    Beteiligte:

    von Gastrow, G. (Autor:in) / Li, S. (Autor:in) / Putkonen, M. (Autor:in) / Laitinen, M. (Autor:in) / Sajavaara, T. (Autor:in) / Savin, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 357 ; 2402-2407

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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