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    Titel:

    Thermal annealing of amorphous Ti-Si-O thin films

    Beteiligte:

    Hodroj, A. (Autor:in) / Chaix-Pluchery, O. (Autor:in) / Audier, M. (Autor:in) / Gottlieb, U. (Autor:in) / Deschanvres, J.-L. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 23 ; 755-759

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0884-2914

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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