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    Titel:

    Influence of the nitrogen fraction on AlN thin film deposited by cathodic arc ion

    Beteiligte:

    Khan, Shakil (Autor:in) / Ahmed, Ishaq (Autor:in) / Mehmood, Mazhar (Autor:in) / Sadiq, Gulfam (Autor:in)

    Erschienen in:

    Materials science in semiconductor processing ; 29 ; 193-200

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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