Chlorine based focused electron beam induced etching: A novel way to pattern germanium: Fid-Bau Portal

Chlorine based focused electron beam induced etching: A novel way to pattern germanium

Shawrav, M.M. / Gökdeniz, Z.G. / Wanzenboeck, H.D. / Taus, P. / Mika, J.K. / Waid, S. / Bertagnolli, E.

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Titel:

Chlorine based focused electron beam induced etching: A novel way to pattern germanium

Beteiligte:

Shawrav, M.M. (Autor:in) / Gökdeniz, Z.G. (Autor:in) / Wanzenboeck, H.D. (Autor:in) / Taus, P. (Autor:in) / Mika, J.K. (Autor:in) / Waid, S. (Autor:in) / Bertagnolli, E. (Autor:in)

Erschienen in:

Materials science in semiconductor processing ; 42 ; 170-173

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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