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Excimer laser induced chlorine etching of Si patterns for microelectronics

Baumgaertner, H. / Jiang, W. / Eisele, I.

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Titel:

Excimer laser induced chlorine etching of Si patterns for microelectronics

Beteiligte:

Baumgaertner, H. (Autor:in) / Jiang, W. (Autor:in) / Eisele, I. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 106 ; 301-305

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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