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    Titel:

    Full ALD Ta2O5-based stacks for resistive random access memory grown with in vacuo XPS monitoring

    Beteiligte:

    Egorov, K.V. (Autor:in) / Lebedinskii, Yu.Yu. (Autor:in) / Markeev, A.M. (Autor:in) / Orlov, O.M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Applied surface science ; 356 ; 454-459

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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