Comparative investigation of Si-C-N Films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition and magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Comparative investigation of Si-C-N Films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition and magnetron sputtering

Kozak, A.O. / Porada, O.K. / Ivashchenko, V.I. / Ivashchenko, L.A. / Scrynskyy, P.L. / Tomila, T.V. / Manzhara, V.S.

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Titel:

Comparative investigation of Si-C-N Films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition and magnetron sputtering

Beteiligte:

Kozak, A.O. (Autor:in) / Porada, O.K. (Autor:in) / Ivashchenko, V.I. (Autor:in) / Ivashchenko, L.A. (Autor:in) / Scrynskyy, P.L. (Autor:in) / Tomila, T.V. (Autor:in) / Manzhara, V.S. (Autor:in)

Erschienen in:

Applied surface science ; 425 ; 646-653

Erscheinungsdatum:

01.01.2017

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.44

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