Room-temperature atomic layer deposition of ZrO2 using tetrakis(ethylmethylamino)zirconium and plasma-excited humidified argon: Fid-Bau Portal

Room-temperature atomic layer deposition of ZrO2 using tetrakis(ethylmethylamino)zirconium and plasma-excited humidified argon

Kanomata, K. / Tokoro, K. / Imai, T. / Pansila, P. / Miura, M. / Ahmmad, B. / Kubota, S. / Hirahara, K. / Hirose, F.

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Titel:

Room-temperature atomic layer deposition of ZrO2 using tetrakis(ethylmethylamino)zirconium and plasma-excited humidified argon

Beteiligte:

Kanomata, K. (Autor:in) / Tokoro, K. (Autor:in) / Imai, T. (Autor:in) / Pansila, P. (Autor:in) / Miura, M. (Autor:in) / Ahmmad, B. (Autor:in) / Kubota, S. (Autor:in) / Hirahara, K. (Autor:in) / Hirose, F. (Autor:in)

Erschienen in:

Applied surface science ; 387 ; 497-502

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.44

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