IR study of fundamental chemical reactions in atomic layer deposition of HfO2 with tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH), ozone, and water vapor: Fid-Bau Portal

IR study of fundamental chemical reactions in atomic layer deposition of HfO2 with tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH), ozone, and water vapor

Hirose, F. / Kinoshita, Y. / Kanomata, K. / Momiyama, K. / Kubota, S. / Hirahara, K. / Kimura, Y. / Niwano, M.

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Titel:

IR study of fundamental chemical reactions in atomic layer deposition of HfO2 with tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH), ozone, and water vapor

Beteiligte:

Hirose, F. (Autor:in) / Kinoshita, Y. (Autor:in) / Kanomata, K. (Autor:in) / Momiyama, K. (Autor:in) / Kubota, S. (Autor:in) / Hirahara, K. (Autor:in) / Kimura, Y. (Autor:in) / Niwano, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 7726-7731

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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