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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Properties of Al2O3 thin films deposited on 4H-SiC by reactive ion sputtering

    Beteiligte:

    Fiorenza, P. (Autor:in) / Vivona, M. (Autor:in) / Di Franco, S. (Autor:in) / Smecca, E. (Autor:in) / Sanzaro, S. (Autor:in) / Alberti, A. (Autor:in) / Saggio, M. (Autor:in) / Roccaforte, F. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Materials science in semiconductor processing ; 93 ; 290-294

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2019

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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