Redistribution of arsenic in silicon during thermal oxidation: Fid-Bau Portal

Redistribution of arsenic in silicon during thermal oxidation

Choi, Seong Soo

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Redistribution of arsenic in silicon during thermal oxidation

Choi, Seong Soo

Redistribution of arsenic in silicon during thermal oxidation

Choi, Seong Soo

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Redistribution of arsenic in silicon during thermal oxidation

Beteiligte:

Choi, Seong Soo (Autor:in)

Erscheinungsdatum:

1987

Format / Umfang:

Mfiche

Anmerkungen:

Chapel Hill, Univ.of North Carolina, Ph.D.Thesis 1987
Langzeitarchivierung durch Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek

Medientyp:

Buch

Format:

Sprache:

Unbekannt

Serra, J. M. / Vallera, A. M. | British Library Online Contents | 1996

Phytoextraction by arsenic hyperaccumulator Pteris vittata L. from six arsenic-contaminated soils: Repeated harvests and arsenic redistribution

Gonzaga, Maria I.S. | Online Contents | 2008

Redistribution of the liquid phase during sintering of silicon nitride

Herrmann, M. / Boberski, C. / Michael, G. et al. | British Library Online Contents | 1993

Hydrogen redistribution in CVD SiO~2 during post-oxidation annealing investigated by SIMS

Kawashima, Y. / Kawano, H. / Terashima, K. et al. | British Library Online Contents | 2004

Chemistry of arsenic removal during coagulation and Fe–Mn oxidation

Edwards, Marc | Wiley | 1994

Nach oben