Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target material excellent in characteristics.SOLUTION: A sputtering target material is composed of a sintered body of an oxide including potassium, sodium, niobium, and oxygen. The volume resistivity at 25°C is less than 6.0×1011 Ω cm, the vickers hardness is equal to or more than 460, and the deflective strength is equal to or more than 90 MPa; or the volume resistivity at 25°C is equal to or more than 6.0×1011 Ω cm, the vickers hardness is equal to or more than 250, and the deflective strength is equal to or more than 90 MPa.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】特性に優れたスパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、２５℃における体積抵抗率が６．０×１０１１Ω・ｃｍ未満であり、ビッカース硬度が４６０以上であり、抗折強度が９０ＭＰａ以上であるか、２５℃における体積抵抗率が６．０×１０１１Ω・ｃｍ以上であり、ビッカース硬度が２５０以上であり、抗折強度が９０ＭＰａ以上である。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target material excellent in characteristics.SOLUTION: A sputtering target material is composed of a sintered body of an oxide including potassium, sodium, niobium, and oxygen. The volume resistivity at 25°C is less than 6.0×1011 Ω cm, the vickers hardness is equal to or more than 460, and the deflective strength is equal to or more than 90 MPa; or the volume resistivity at 25°C is equal to or more than 6.0×1011 Ω cm, the vickers hardness is equal to or more than 250, and the deflective strength is equal to or more than 90 MPa.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】特性に優れたスパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、２５℃における体積抵抗率が６．０×１０１１Ω・ｃｍ未満であり、ビッカース硬度が４６０以上であり、抗折強度が９０ＭＰａ以上であるか、２５℃における体積抵抗率が６．０×１０１１Ω・ｃｍ以上であり、ビッカース硬度が２５０以上であり、抗折強度が９０ＭＰａ以上である。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット
NAKADA KUNIHIKO (Autor:in) / NISHIOKA KOJI (Autor:in)
31.05.2023
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch