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ALUMINA SINTERED BODY MEMBER INCLUDING THE SAME AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
(과제) 제조공정의 복잡화를 억제하고, 알루미나에 첨가하는 산화티탄의 양을 억제하면서 소망하는 체적 저항률을 나타내는 알루미나 소결체를 얻는다. (해결수단) 알루미나를 주성분으로 하고, 티탄 원소를 함유하는 알루미나 소결체는 란탄 원소, 네오디뮴 원소 및 세륨 원소에서 선택되는 적어도 1종의 원소를 더 함유한다. 알루미늄 원소의 함유량은 산화물로 환산하였을 때의 전체 산화물 중의 산화알루미늄의 비율이 93.00∼99.85중량%가 되는 양이다. 티탄 원소의 함유량은 전체 산화물 중의 산화티탄의 비율이 0.10∼2.00중량%가 되는 양이다. 란탄 원소, 네오디뮴 원소 및 세륨 원소의 함유량의 합계는 전체 산화물에 대한 산화란탄, 산화네오디뮴 및 산화세륨의 합계량의 비율이 0.05∼5.00중량%가 되는 양이다. 체적 저항률은 실온에서 1×10∼1×10Ω·㎝이다.
ALUMINA SINTERED BODY MEMBER INCLUDING THE SAME AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
(과제) 제조공정의 복잡화를 억제하고, 알루미나에 첨가하는 산화티탄의 양을 억제하면서 소망하는 체적 저항률을 나타내는 알루미나 소결체를 얻는다. (해결수단) 알루미나를 주성분으로 하고, 티탄 원소를 함유하는 알루미나 소결체는 란탄 원소, 네오디뮴 원소 및 세륨 원소에서 선택되는 적어도 1종의 원소를 더 함유한다. 알루미늄 원소의 함유량은 산화물로 환산하였을 때의 전체 산화물 중의 산화알루미늄의 비율이 93.00∼99.85중량%가 되는 양이다. 티탄 원소의 함유량은 전체 산화물 중의 산화티탄의 비율이 0.10∼2.00중량%가 되는 양이다. 란탄 원소, 네오디뮴 원소 및 세륨 원소의 함유량의 합계는 전체 산화물에 대한 산화란탄, 산화네오디뮴 및 산화세륨의 합계량의 비율이 0.05∼5.00중량%가 되는 양이다. 체적 저항률은 실온에서 1×10∼1×10Ω·㎝이다.
ALUMINA SINTERED BODY MEMBER INCLUDING THE SAME AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
알루미나 소결체, 이것을 구비하는 부재 및 반도체 제조장치
22.12.2016
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
Alumina sintered body, member including the same, and semiconductor manufacturing apparatus
Europäisches Patentamt | 2015
|Europäisches Patentamt | 2017
Member for semiconductor manufacturing apparatus including aluminum nitride sintered body
Europäisches Patentamt | 2022
|Europäisches Patentamt | 2015
|Europäisches Patentamt | 2023
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