OXIDE THIN FILM AND OXIDE SINTERED BODY FOR SPUTTERING TARGET FOR PRODUCING OXIDE THIN FILM: Fid-Bau Portal

OXIDE THIN FILM AND OXIDE SINTERED BODY FOR SPUTTERING TARGET FOR PRODUCING OXIDE THIN FILM

Nb, Mo, O로 이루어지는 산화물 박막이며, Nb와 Mo의 함유 비율(원자비)이 0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8, O와 메탈(Nb+Mo)의 함유 비율(원자비)이 1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.0인 것을 특징으로 하는 산화물 박막. 또한, Nb, Mo, O로 이루어지는 산화물 소결체이며, Nb와 Mo의 함유 비율(원자비)이 0.1≤Nb/(Nb+Mo)≤0.8, O와 메탈(Nb+Mo)의 함유 비율(원자비)이 1.5＜O/(Nb+Mo)＜2.1, MoO2상의 (-111)면에 귀속되는 XRD 피크 강도 IMoO2와 백그라운드 강도 IBG의 관계가 IMoO2/IBG＞3을 만족시키는 것을 특징으로 하는 산화물 소결체. 본 발명은, 반사율 및 투과율이 낮고 우수한 광 흡수능을 갖고, 또한 에칭액에 녹아, 가공이 용이한 한편, 내후성이 높아, 경시 변화가 일어나기 어렵다고 하는 우수한 특성을 갖는 산화물 박막, 및 당해 박막의 형성에 적합한 스퍼터링 타깃용 산화물 소결체를 제공하는 것을 과제로 한다.

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