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PLASMA-RESISTANT COATING FILM, SOL GEL LIQUID FOR FORMING SAID FILM, METHOD FOR FORMING PLASMA-RESISTANT COATING FILM, AND SUBSTRATE WITH PLASMA-RESISTANT COATING FILM
A plasma-resistant coating film according to the present invention is formed on a substrate, contains crystalline Y2O3 particles having an average particle diameter of 0.5-5.0 μm in a SiO2 film, and has a film density of at least 90%, as obtained from expression (1) using image analysis of the cross section of said film with a scanning electron microscope, wherein the size of pores in said film is at most 5 μm in terms of diameter, and the peeling rate of said film from the substrate through a cross-cut test is at most 5%. Film density (%)=[(S1-S2)/S1]×100 (1) Provided that, in expression (1), S1 is the area of the film and S2 is the area of a pore portion in the film.
Film de revêtement résistant au plasma selon la présente invention formé sur un substrat, contenant des particules de Y2O3 cristallin ayant un diamètre de particule moyen de 0,5 à 5,0 µm dans un film SiO2 et ayant une densité de film d'au moins 90 %, telle qu'obtenue à partir de l'expression (1) à l'aide d'une analyse d'image de la section transversale dudit film avec un microscope électronique à balayage, la taille des pores dans ledit film étant d'au plus de 5 µm en termes de diamètre et le taux de pelage dudit film à partir du substrat par l'intermédiaire d'un test de coupe transversale étant d'au plus de 5 %. Densité de film (%)=[(S1-S2)/S1]×100 (1) À condition que, dans l'expression (1), S1 est la surface du film et S2 est la surface d'une partie de pore dans le film.
本発明の耐プラズマコーティング膜は、基材上に形成され、ＳｉＯ２膜中に平均粒径が０．５μｍ～５．０μｍの結晶性Ｙ２Ｏ３粒子が含まれ、膜断面を走査型電子顕微鏡で画像解析することにより下記式（１）で求められる膜密度が９０％以上であって、膜中のポアのサイズが直径５μｍ以下であり、かつ膜のクロスカット試験による前記基材からの剥離率が５％以下である耐プラズマコーティング膜である。 膜密度（％）＝［（Ｓ１－Ｓ２）／Ｓ１］×１００（１） 但し、式（１）中、Ｓ１は膜の面積、Ｓ２は膜中のポア部分の面積である。
PLASMA-RESISTANT COATING FILM, SOL GEL LIQUID FOR FORMING SAID FILM, METHOD FOR FORMING PLASMA-RESISTANT COATING FILM, AND SUBSTRATE WITH PLASMA-RESISTANT COATING FILM
A plasma-resistant coating film according to the present invention is formed on a substrate, contains crystalline Y2O3 particles having an average particle diameter of 0.5-5.0 μm in a SiO2 film, and has a film density of at least 90%, as obtained from expression (1) using image analysis of the cross section of said film with a scanning electron microscope, wherein the size of pores in said film is at most 5 μm in terms of diameter, and the peeling rate of said film from the substrate through a cross-cut test is at most 5%. Film density (%)=[(S1-S2)/S1]×100 (1) Provided that, in expression (1), S1 is the area of the film and S2 is the area of a pore portion in the film.
Film de revêtement résistant au plasma selon la présente invention formé sur un substrat, contenant des particules de Y2O3 cristallin ayant un diamètre de particule moyen de 0,5 à 5,0 µm dans un film SiO2 et ayant une densité de film d'au moins 90 %, telle qu'obtenue à partir de l'expression (1) à l'aide d'une analyse d'image de la section transversale dudit film avec un microscope électronique à balayage, la taille des pores dans ledit film étant d'au plus de 5 µm en termes de diamètre et le taux de pelage dudit film à partir du substrat par l'intermédiaire d'un test de coupe transversale étant d'au plus de 5 %. Densité de film (%)=[(S1-S2)/S1]×100 (1) À condition que, dans l'expression (1), S1 est la surface du film et S2 est la surface d'une partie de pore dans le film.
本発明の耐プラズマコーティング膜は、基材上に形成され、ＳｉＯ２膜中に平均粒径が０．５μｍ～５．０μｍの結晶性Ｙ２Ｏ３粒子が含まれ、膜断面を走査型電子顕微鏡で画像解析することにより下記式（１）で求められる膜密度が９０％以上であって、膜中のポアのサイズが直径５μｍ以下であり、かつ膜のクロスカット試験による前記基材からの剥離率が５％以下である耐プラズマコーティング膜である。 膜密度（％）＝［（Ｓ１－Ｓ２）／Ｓ１］×１００（１） 但し、式（１）中、Ｓ１は膜の面積、Ｓ２は膜中のポア部分の面積である。
PLASMA-RESISTANT COATING FILM, SOL GEL LIQUID FOR FORMING SAID FILM, METHOD FOR FORMING PLASMA-RESISTANT COATING FILM, AND SUBSTRATE WITH PLASMA-RESISTANT COATING FILM
FILM DE REVÊTEMENT RÉSISTANT AU PLASMA, LIQUIDE SOL-GEL POUR FORMER LEDIT FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM DE REVÊTEMENT RÉSISTANT AU PLASMA ET SUBSTRAT AVEC FILM DE REVÊTEMENT RÉSISTANT AU PLASMA
耐プラズマコーティング膜、該膜形成用ゾルゲル液、耐プラズマコーティング膜の形成方法及び耐プラズマコーティング膜付き基材
TSUJIUCHI NAOTO (Autor:in) / TATSUMI KOJI (Autor:in) / SHIONO ICHIRO (Autor:in)
17.03.2022
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
| Europäisches Patentamt | 2023
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Plasma-resistant coating film, method for producing same, and plasma-resistant member
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