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SILICON NITRIDE POWDER, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
This silicon nitride powder contains primary particles of silicon nitride, wherein the particle diameter distribution by volume, measured with a particle diameter distribution measurement device that uses laser diffraction and scattering, has a first peak 10 and a second peak 20 which is in the particle diameter region above that of the first peak 10. Defining H1 and H2 respectively as the heights of the first peak 10 and the second peak 20 with reference to the minimum height H3 of frequencies between the first peak 10 and the second peak 20, H2/H1 is less than or equal to 1.04.
L'invention concerne une poudre de nitrure de silicium qui contient des particules primaires de nitrure de silicium. La distribution de diamètre de particule par volume, mesurée avec un dispositif de mesure de distribution de diamètre de particule qui utilise la diffraction et la diffusion laser, présente un premier pic 10 et un second pic 20 qui est dans la région de diamètre de particules au-dessus de celle du premier pic 10. En définissant H1 et H2 comme respectivement les hauteurs du premier pic 10 et du second pic 20 en référence à la hauteur minimale H3 de fréquences entre le premier pic 10 et le second pic 20, le rapport H2/H1 est inférieur ou égal à 1,04.
窒化ケイ素の一次粒子を含み、レーザー回折・散乱法を用いた粒子径分布測定装置で測定される体積基準の粒子径分布が、第１ピーク１０と、第１ピーク１０よりも大きい粒子径領域に第２ピーク２０とを有し、第１ピーク１０と第２ピーク２０との間の頻度の最低高さＨ３を基準とする第１ピーク１０及び第２ピーク２０の高さをそれぞれＨ１及びＨ２としたときに、Ｈ２／Ｈ１が１．０４以下である、窒化ケイ素粉末を提供する。
SILICON NITRIDE POWDER, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
This silicon nitride powder contains primary particles of silicon nitride, wherein the particle diameter distribution by volume, measured with a particle diameter distribution measurement device that uses laser diffraction and scattering, has a first peak 10 and a second peak 20 which is in the particle diameter region above that of the first peak 10. Defining H1 and H2 respectively as the heights of the first peak 10 and the second peak 20 with reference to the minimum height H3 of frequencies between the first peak 10 and the second peak 20, H2/H1 is less than or equal to 1.04.
L'invention concerne une poudre de nitrure de silicium qui contient des particules primaires de nitrure de silicium. La distribution de diamètre de particule par volume, mesurée avec un dispositif de mesure de distribution de diamètre de particule qui utilise la diffraction et la diffusion laser, présente un premier pic 10 et un second pic 20 qui est dans la région de diamètre de particules au-dessus de celle du premier pic 10. En définissant H1 et H2 comme respectivement les hauteurs du premier pic 10 et du second pic 20 en référence à la hauteur minimale H3 de fréquences entre le premier pic 10 et le second pic 20, le rapport H2/H1 est inférieur ou égal à 1,04.
窒化ケイ素の一次粒子を含み、レーザー回折・散乱法を用いた粒子径分布測定装置で測定される体積基準の粒子径分布が、第１ピーク１０と、第１ピーク１０よりも大きい粒子径領域に第２ピーク２０とを有し、第１ピーク１０と第２ピーク２０との間の頻度の最低高さＨ３を基準とする第１ピーク１０及び第２ピーク２０の高さをそれぞれＨ１及びＨ２としたときに、Ｈ２／Ｈ１が１．０４以下である、窒化ケイ素粉末を提供する。
SILICON NITRIDE POWDER, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SINTERED BODY
POUDRE DE NITRURE DE SILICIUM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CORPS FRITTÉ DE NITRURE DE SILICIUM
窒化ケイ素粉末、及び窒化ケイ素焼結体の製造方法
MIYASHITA TOSHIYUKI (Autor:in) / NAKAMURA YUZO (Autor:in)
06.10.2022
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
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