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OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an In-Ga-Zn oxide sintered body allowing stable sputtering.SOLUTION: An oxide sintered body consists of a homologous monophase of formula InGaZnO(m is 0.5 or an integer of 1 or greater), and the homologous phase contains one or more elements X's selected from yttrium(Y), titanium(Ti) and lanthanoids(Ln) and has a number of 10-μm-or-longer twin crystal cracks of one or smaller in the 40×25 μm visual field and a relative density of 95% or higher, and the average grain size of the homologous phase is 10 μm or smaller.
【課題】安定したスパッタリングができるＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物焼結体を提供する。【解決手段】ＩｎＧａＺｎｍＯ３＋ｍ（ｍは、０．５又は１以上の整数）で表されるホモロガス相の単一相からなり、上記ホモロガス相は、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）及びランタノイド（Ｌｎ）から選択される一以上の元素Ｘを含み、長さ１０μｍ以上の双晶割れの個数が４０?２５μｍ四方の視野中に１個以下であり、相対密度が９５％以上であり、前記ホモロガス相の平均粒子径が１０μｍ以下であることを特徴とする酸化物焼結体。【選択図】なし
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an In-Ga-Zn oxide sintered body allowing stable sputtering.SOLUTION: An oxide sintered body consists of a homologous monophase of formula InGaZnO(m is 0.5 or an integer of 1 or greater), and the homologous phase contains one or more elements X's selected from yttrium(Y), titanium(Ti) and lanthanoids(Ln) and has a number of 10-μm-or-longer twin crystal cracks of one or smaller in the 40×25 μm visual field and a relative density of 95% or higher, and the average grain size of the homologous phase is 10 μm or smaller.
【課題】安定したスパッタリングができるＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物焼結体を提供する。【解決手段】ＩｎＧａＺｎｍＯ３＋ｍ（ｍは、０．５又は１以上の整数）で表されるホモロガス相の単一相からなり、上記ホモロガス相は、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）及びランタノイド（Ｌｎ）から選択される一以上の元素Ｘを含み、長さ１０μｍ以上の双晶割れの個数が４０?２５μｍ四方の視野中に１個以下であり、相対密度が９５％以上であり、前記ホモロガス相の平均粒子径が１０μｍ以下であることを特徴とする酸化物焼結体。【選択図】なし
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット
UTSUNO FUTOSHI (author) / TERAI KOTA (author)
2015-11-02
Patent
Electronic Resource
Japanese
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| European Patent Office | 2017
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| European Patent Office | 2016
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
European Patent Office | 2018