A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sputtering target held stably on a base material while preventing the cracking of a sputtering target material.SOLUTION: A cylindrical type sputtering target comprises: a cylindrical type base material made of a metal; a plurality of cylindrical type sputtering target materials mounted on the cylindrical type base material; and a joint material interposed between the cylindrical type base material and the cylindrical type sputtering target materials. The cylindrical type sputtering target materials contain indium (In). The joint material contains indium (In) and a second metal element other than indium (In). Each of the cylindrical type sputtering target materials is mounted through a clearance on the cylindrical type base material so that the joint material is exposed to the portion of the clearance.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】スパッタリングターゲット材の割れを防ぎ、基材に安定して保持される、スパッタリングターゲットを提供することを目的の一つとする。【解決手段】金属で形成された円筒型基材と、円筒型基材に装着された複数の円筒型スパッタリングターゲット材と、円筒型基材と複数の円筒型スパッタリングターゲット材との間に設けられた接合材と、を有し、複数の円筒型スパッタリングターゲット材はインジウム（Ｉｎ）を含み、接合材はインジウム（Ｉｎ）と、インジウム（Ｉｎ）以外の第２の金属元素を含み、複数の円筒型スパッタリングターゲット材のそれぞれは、間隙をもって円筒型基材に装着され、間隙の部分に接合材が露出している円筒型スパッタリングターゲットが提供される。【選択図】図１
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sputtering target held stably on a base material while preventing the cracking of a sputtering target material.SOLUTION: A cylindrical type sputtering target comprises: a cylindrical type base material made of a metal; a plurality of cylindrical type sputtering target materials mounted on the cylindrical type base material; and a joint material interposed between the cylindrical type base material and the cylindrical type sputtering target materials. The cylindrical type sputtering target materials contain indium (In). The joint material contains indium (In) and a second metal element other than indium (In). Each of the cylindrical type sputtering target materials is mounted through a clearance on the cylindrical type base material so that the joint material is exposed to the portion of the clearance.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】スパッタリングターゲット材の割れを防ぎ、基材に安定して保持される、スパッタリングターゲットを提供することを目的の一つとする。【解決手段】金属で形成された円筒型基材と、円筒型基材に装着された複数の円筒型スパッタリングターゲット材と、円筒型基材と複数の円筒型スパッタリングターゲット材との間に設けられた接合材と、を有し、複数の円筒型スパッタリングターゲット材はインジウム（Ｉｎ）を含み、接合材はインジウム（Ｉｎ）と、インジウム（Ｉｎ）以外の第２の金属元素を含み、複数の円筒型スパッタリングターゲット材のそれぞれは、間隙をもって円筒型基材に装着され、間隙の部分に接合材が露出している円筒型スパッタリングターゲットが提供される。【選択図】図１
CYLINDRICAL TYPE SPUTTERING TARGET
円筒型スパッタリングターゲット
TATENO SATOSHI (author)
2016-10-06
Patent
Electronic Resource
Japanese
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2019
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
European Patent Office | 2019
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2017