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SPATTERING TARGET, METAL OXIDE PRODUCING METHOD, AND SPATTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sputtering target containing a rare-earth element as an auxiliary component element of a minute amount, a method for producing a metal oxide containing a rare-earth element, and a sputtering target manufacturing method.SOLUTION: A sputtering target contains a metal oxide expressed by the following formula 1, and contains a rare earth element homogeneously dispersed. In AReTiO---(Eq. 1) (In Eq. 1: A: at least one kind of alkaline earth metal element; Re: at least one kind of rare-earth element; Ti: titanium; O: oxygen, 0
【課題】微量な副成分元素として希土類元素を含有するスパッタリングターゲット、希土類元素を含有する金属酸化物の製造方法、及び、スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】下記式１で示す金属酸化物を含み、希土類元素が均一に分散しているスパッタリングターゲットである。Ａ１−ｘＲｅｘＴｉｙＯ３・・・（式１）（式１において、Ａはアルカリ土類金属元素の少なくとも１種であり、Ｒｅは希土類元素の少なくとも１種であり、Ｔｉはチタンであり、Ｏは酸素であり、０＜ｘ＜０．０５及び０．９５＜ｙ＜０．９９である。）【選択図】図１
SPATTERING TARGET, METAL OXIDE PRODUCING METHOD, AND SPATTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sputtering target containing a rare-earth element as an auxiliary component element of a minute amount, a method for producing a metal oxide containing a rare-earth element, and a sputtering target manufacturing method.SOLUTION: A sputtering target contains a metal oxide expressed by the following formula 1, and contains a rare earth element homogeneously dispersed. In AReTiO---(Eq. 1) (In Eq. 1: A: at least one kind of alkaline earth metal element; Re: at least one kind of rare-earth element; Ti: titanium; O: oxygen, 0
【課題】微量な副成分元素として希土類元素を含有するスパッタリングターゲット、希土類元素を含有する金属酸化物の製造方法、及び、スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】下記式１で示す金属酸化物を含み、希土類元素が均一に分散しているスパッタリングターゲットである。Ａ１−ｘＲｅｘＴｉｙＯ３・・・（式１）（式１において、Ａはアルカリ土類金属元素の少なくとも１種であり、Ｒｅは希土類元素の少なくとも１種であり、Ｔｉはチタンであり、Ｏは酸素であり、０＜ｘ＜０．０５及び０．９５＜ｙ＜０．９９である。）【選択図】図１
SPATTERING TARGET, METAL OXIDE PRODUCING METHOD, AND SPATTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲット、金属酸化物の製造方法、及び、スパッタリングターゲットの製造方法
TAKATSUKA YUJI (author)
2018-06-21
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2023
SPATTERING TARGET MATERIAL, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND THIN FILM
| European Patent Office | 2021