A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTION FILM AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET
To provide an optical function film with a durability capable of sufficiently suppressing a light reflection from a metal thin film, etc., a sputtering target capable of efficiently and stably depositing this optical function film, and a manufacturing method of this sputtering target.SOLUTION: A sputtering target contains 20 mass% or more of V and 5 mass% or more of N, and has a density ratio of 84% or more. An optical function film contains 20 atom% or more of V and N each, and provides n×k×d, a product of a film thickness d, a refractive index n, and an extinction coefficient k in a visible light region, of 30 or more and 150 or less. A manufacturing method of a sputtering target includes preparing a VN-containing raw material powder which contains 20 mass% or more of V, 5 mass% or more of N, and has 74 vol.% or more of powder with a particle size of 100 μm or less, and sintering at 1000°C or higher while the VN-containing raw material powder is pressed.SELECTED DRAWING: None
【課題】耐久性を有するともに金属薄膜等からの光の反射を十分に抑制することが可能な光学機能膜、この光学機能膜を効率良く安定して成膜可能なスパッタリングターゲット、及び、このスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】Ｖを２０ｍａｓｓ％以上、Ｎを５ｍａｓｓ％以上含有し、密度比が８４％以上であるスパッタリングターゲット。ＶとＮをそれぞれ２０原子％以上含有し、膜厚ｄと可視光領域の屈折率ｎと可視光領域の消衰係数ｋとの積ｎ×ｋ×ｄが３０以上１５０以下の範囲内とされている光学機能膜。Ｖを２０ｍａｓｓ％以上、Ｎを５ｍａｓｓ％以上含有するとともに粒径１００μｍ以下の粉の含有量が７４ｖｏｌ％以上とされたＶＮ含有原料粉を準備し、前記ＶＮ含有原料粉を加圧して１０００℃以上の温度で焼結するスパッタリングターゲットの製造方法。【選択図】なし
SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTION FILM AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET
To provide an optical function film with a durability capable of sufficiently suppressing a light reflection from a metal thin film, etc., a sputtering target capable of efficiently and stably depositing this optical function film, and a manufacturing method of this sputtering target.SOLUTION: A sputtering target contains 20 mass% or more of V and 5 mass% or more of N, and has a density ratio of 84% or more. An optical function film contains 20 atom% or more of V and N each, and provides n×k×d, a product of a film thickness d, a refractive index n, and an extinction coefficient k in a visible light region, of 30 or more and 150 or less. A manufacturing method of a sputtering target includes preparing a VN-containing raw material powder which contains 20 mass% or more of V, 5 mass% or more of N, and has 74 vol.% or more of powder with a particle size of 100 μm or less, and sintering at 1000°C or higher while the VN-containing raw material powder is pressed.SELECTED DRAWING: None
【課題】耐久性を有するともに金属薄膜等からの光の反射を十分に抑制することが可能な光学機能膜、この光学機能膜を効率良く安定して成膜可能なスパッタリングターゲット、及び、このスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】Ｖを２０ｍａｓｓ％以上、Ｎを５ｍａｓｓ％以上含有し、密度比が８４％以上であるスパッタリングターゲット。ＶとＮをそれぞれ２０原子％以上含有し、膜厚ｄと可視光領域の屈折率ｎと可視光領域の消衰係数ｋとの積ｎ×ｋ×ｄが３０以上１５０以下の範囲内とされている光学機能膜。Ｖを２０ｍａｓｓ％以上、Ｎを５ｍａｓｓ％以上含有するとともに粒径１００μｍ以下の粉の含有量が７４ｖｏｌ％以上とされたＶＮ含有原料粉を準備し、前記ＶＮ含有原料粉を加圧して１０００℃以上の温度で焼結するスパッタリングターゲットの製造方法。【選択図】なし
SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTION FILM AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、スパッタリングターゲットの製造方法
UMEMOTO KEITA (author)
2021-05-20
Patent
Electronic Resource
Japanese
SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTION FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2021
SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET, AND OPTICAL FUNCTION FILM
| European Patent Office | 2021
OPTICAL FUNCTIONAL FILM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2020
OPTICAL FUNCTIONAL FILM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2021
| European Patent Office | 2020