A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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OPTICAL FUNCTIONAL FILM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
An optical functional film of the present invention contains a first component comprising at least one selected from TiC, NbC, VC, TiN, NbN and VN, and a second component comprising at least one selected from In2O3, Y2O3, Nb2O5, V2O5, Al2O3, ZnO and SiO2, and has a film thickness d of 30-100 nm, a refractive index n of 1.5-2.7 in a visible light region, and an extinction coefficient k of 0.3 or more in the visible light region.
La présente invention concerne un film fonctionnel optique, contenant un premier constituant comprenant au moins un élément choisi parmi le TiC, le NbC, le VC, le TiN, le NbN et le VN, et un second constituant comprenant au moins un élément choisi parmi le In2O3, le Y2O3, le Nb2O5, le V2O5, l'Al2O3, le ZnO et le SiO2, et ayant une épaisseur de film (d) de 30 à 100 nm, un indice de réfraction (n) de 1,5 à 2,7 dans une région de lumière visible, et un coefficient d'extinction (k) de 0,3 ou plus dans la région de lumière visible.
本発明の光学機能膜は、ＴｉＣ，ＮｂＣ，ＶＣ，ＴｉＮ，ＮｂＮ，ＶＮから選択される一種以上からなる第１成分と、Ｉｎ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３，Ｎｂ２Ｏ５，Ｖ２Ｏ５，Ａｌ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＳｉＯ２から選択される一種以上からなる第２成分と、を含有し、膜厚ｄが３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、可視光領域の屈折率ｎが１．５以上２．７以下であり、かつ、可視光領域の消衰係数ｋが０．３以上１．５以下である。
OPTICAL FUNCTIONAL FILM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
An optical functional film of the present invention contains a first component comprising at least one selected from TiC, NbC, VC, TiN, NbN and VN, and a second component comprising at least one selected from In2O3, Y2O3, Nb2O5, V2O5, Al2O3, ZnO and SiO2, and has a film thickness d of 30-100 nm, a refractive index n of 1.5-2.7 in a visible light region, and an extinction coefficient k of 0.3 or more in the visible light region.
La présente invention concerne un film fonctionnel optique, contenant un premier constituant comprenant au moins un élément choisi parmi le TiC, le NbC, le VC, le TiN, le NbN et le VN, et un second constituant comprenant au moins un élément choisi parmi le In2O3, le Y2O3, le Nb2O5, le V2O5, l'Al2O3, le ZnO et le SiO2, et ayant une épaisseur de film (d) de 30 à 100 nm, un indice de réfraction (n) de 1,5 à 2,7 dans une région de lumière visible, et un coefficient d'extinction (k) de 0,3 ou plus dans la région de lumière visible.
本発明の光学機能膜は、ＴｉＣ，ＮｂＣ，ＶＣ，ＴｉＮ，ＮｂＮ，ＶＮから選択される一種以上からなる第１成分と、Ｉｎ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３，Ｎｂ２Ｏ５，Ｖ２Ｏ５，Ａｌ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＳｉＯ２から選択される一種以上からなる第２成分と、を含有し、膜厚ｄが３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、可視光領域の屈折率ｎが１．５以上２．７以下であり、かつ、可視光領域の消衰係数ｋが０．３以上１．５以下である。
OPTICAL FUNCTIONAL FILM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
FILM FONCTIONNEL OPTIQUE, CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
光学機能膜、スパッタリングターゲット、及び、スパッタリングターゲットの製造方法
UMEMOTO KEITA (author) / SHIRAI YOSHINORI (author) / SUGIUCHI YUKIYA (author) / OHTOMO TAKESHI (author)
2020-03-12
Patent
Electronic Resource
Japanese
OPTICAL FUNCTIONAL FILM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2021
SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET AND OPTICAL FUNCTIONAL FILM
| European Patent Office | 2021
SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET, AND OPTICAL FUNCTIONAL FILM
| European Patent Office | 2022
SPUTTERING TARGET, OPTICAL FUNCTION FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2021
SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET, AND OPTICAL FUNCTION FILM
| European Patent Office | 2021