A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
Power feeding part for electrostatic chuck and electrostatic chuck
기판과의 열팽창율 차이를 줄임과 동시에 급전 기능을 확보할 수 있는 정전 척용 급전부 및 정전 척을 제공한다. 시료를 재치하는 재치판(1)과, 이 재치판과 일체화되는 기판(2)과, 이들 재치판과 기판 사이에 설치된 내부 전극(3)을 구비한 정전 척에서, 내부 전극(1)에 급전하기 위해 기판(2)을 관통하도록 설치되는 정전 척용 급전부(4)이다. 이 급전부(4)는, 기판(2)의 주성분과 동일한 주성분을 가진 기판 주성분 입자와 도전성 입자를 포함한 복합 소결체이며, 기판 주성분 입자를 55 체적% 이상 90 체적% 이하, 도전성 입자를 10 체적% 이상 45 체적% 이하 함유하고, 조직은, 기판 주성분 입자와, 기판 주성분 입자의 입계에 존재하는 매트릭스부를 포함하고, 매트릭스부에 도전성 입자가 존재하고, 또한 기판 주성분 입자의 평균 입자 직경을 R1, 도전성 입자의 평균 입자 직경을 R2로 했을 때에, R1/R2가 1.6 이상이다.
An object of the present invention is to provide a power supply unit for an electrostatic chuck and an electrostatic chuck capable of reducing a difference in thermal expansion coefficient between the power supply unit and a substrate and ensuring a power supply function. The solution is to provide an electrostatic chuck including a mounting plate (1) for mounting a sample, a substrate (2) integrated with the mounting plate, an internal electrode (3) provided between the mounting plate and the substrate, and a power supply part (4) for the electrostatic chuck disposed in a configuration that penetrates the substrate (2) in order to supply power to the internal electrode (3). The power supply part (4) is a composite sintered body containing substrate main component particles having the same main component as the main component of the substrate (2), and conductive particles, in which the power supply part (4) contains 55 volume% or more and 90 volume% or less of the substrate main component particles, and 10 volume% or more and 45 volume% or less of the conductive particles. The structure includes the substrate main component particles and a matrix part existing at the particle boundaries of the substrate main component particles. The conductive particles are present in the matrix part. When the average particle diameter of the substrate main component particles is R1 and the average particle diameter of the conductive particles is R2, R1/R2 is 1.6 or more.
Power feeding part for electrostatic chuck and electrostatic chuck
기판과의 열팽창율 차이를 줄임과 동시에 급전 기능을 확보할 수 있는 정전 척용 급전부 및 정전 척을 제공한다. 시료를 재치하는 재치판(1)과, 이 재치판과 일체화되는 기판(2)과, 이들 재치판과 기판 사이에 설치된 내부 전극(3)을 구비한 정전 척에서, 내부 전극(1)에 급전하기 위해 기판(2)을 관통하도록 설치되는 정전 척용 급전부(4)이다. 이 급전부(4)는, 기판(2)의 주성분과 동일한 주성분을 가진 기판 주성분 입자와 도전성 입자를 포함한 복합 소결체이며, 기판 주성분 입자를 55 체적% 이상 90 체적% 이하, 도전성 입자를 10 체적% 이상 45 체적% 이하 함유하고, 조직은, 기판 주성분 입자와, 기판 주성분 입자의 입계에 존재하는 매트릭스부를 포함하고, 매트릭스부에 도전성 입자가 존재하고, 또한 기판 주성분 입자의 평균 입자 직경을 R1, 도전성 입자의 평균 입자 직경을 R2로 했을 때에, R1/R2가 1.6 이상이다.
An object of the present invention is to provide a power supply unit for an electrostatic chuck and an electrostatic chuck capable of reducing a difference in thermal expansion coefficient between the power supply unit and a substrate and ensuring a power supply function. The solution is to provide an electrostatic chuck including a mounting plate (1) for mounting a sample, a substrate (2) integrated with the mounting plate, an internal electrode (3) provided between the mounting plate and the substrate, and a power supply part (4) for the electrostatic chuck disposed in a configuration that penetrates the substrate (2) in order to supply power to the internal electrode (3). The power supply part (4) is a composite sintered body containing substrate main component particles having the same main component as the main component of the substrate (2), and conductive particles, in which the power supply part (4) contains 55 volume% or more and 90 volume% or less of the substrate main component particles, and 10 volume% or more and 45 volume% or less of the conductive particles. The structure includes the substrate main component particles and a matrix part existing at the particle boundaries of the substrate main component particles. The conductive particles are present in the matrix part. When the average particle diameter of the substrate main component particles is R1 and the average particle diameter of the conductive particles is R2, R1/R2 is 1.6 or more.
Power feeding part for electrostatic chuck and electrostatic chuck
정전 척용 급전부 및 정전 척
2024-08-06
Patent
Electronic Resource
Korean
IPC:
H01L
Halbleiterbauelemente
,
SEMICONDUCTOR DEVICES
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
G03F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen
,
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES
Power feeding part for electrostatic chuck and electrostatic chuck
| European Patent Office | 2023
Electrostatic chuck dielectric layer and electrostatic chuck
European Patent Office | 2020
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
| European Patent Office | 2023
ELECTROSTATIC CHUCK MEMBER AND ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
| European Patent Office | 2017
| European Patent Office | 2023