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WAFER PROCESSING APPARATUS
기판 처리 공간을 제공하고, 일측이 개방되어 기판 출입구가 마련된 내부 챔버; 내부 챔버와 소정의 간격만큼 이격되어 내부 챔버를 감싸는 외부 챔버; 내부 챔버의 기판 처리 공간을 개폐하는 외부 도어; 외부 챔버와 연결되며, 기판 처리 공간에 연통되는 기판 이동 통로가 마련된 매니폴드; 및 외부 도어를 잠금 또는 잠금 해제하도록 구성되는 잠금 어셈블리를 포함하며, 잠금 어셈블리는 매니폴드에 회전 가능하게 결합되는 회전 바디부; 외부 도어에 마련되는 잠금 홀(hole); 및 회전 바디부에 결합되며 잠금 홀에 삽입되어 외부 도어를 잠글 수 있도록 구성된 잠금 부재를 포함하는 기판 처리 장치가 제공된다.
WAFER PROCESSING APPARATUS
기판 처리 공간을 제공하고, 일측이 개방되어 기판 출입구가 마련된 내부 챔버; 내부 챔버와 소정의 간격만큼 이격되어 내부 챔버를 감싸는 외부 챔버; 내부 챔버의 기판 처리 공간을 개폐하는 외부 도어; 외부 챔버와 연결되며, 기판 처리 공간에 연통되는 기판 이동 통로가 마련된 매니폴드; 및 외부 도어를 잠금 또는 잠금 해제하도록 구성되는 잠금 어셈블리를 포함하며, 잠금 어셈블리는 매니폴드에 회전 가능하게 결합되는 회전 바디부; 외부 도어에 마련되는 잠금 홀(hole); 및 회전 바디부에 결합되며 잠금 홀에 삽입되어 외부 도어를 잠글 수 있도록 구성된 잠금 부재를 포함하는 기판 처리 장치가 제공된다.
WAFER PROCESSING APPARATUS
기판 처리 장치
HAM YOUNG JOON (author) / KIM JEONG EUI (author) / KWON YONG HWAN (author) / LEE JIN SEOK (author) / HWANG BYUNG WOOK (author) / MO YEON MIN (author) / SHIN JUN SEOB (author)
2024-10-14
Patent
Electronic Resource
Korean
Photoluminescence Mapping of a SiC Wafer in Device Processing
British Library Online Contents | 2004
|Through-wafer Via Etching Enabling Wafer Stacking
British Library Online Contents | 2005
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