A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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CERAMIC CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
본 발명은, 길이가 500㎜ 이상이며 상대 밀도가 95% 이상이며, 일체품인 것을 특징으로 하는 세라믹스 원통형 스퍼터링 타겟재이다. 본 발명의 세라믹스 원통형 스퍼터링 타겟재는, 고밀도이며 500㎜ 이상의 길이를 갖는 일체품이므로, 다수의 스퍼터링 타겟재를 중첩하여 장척으로 하여 사용할 필요가 없다. 이 때문에, 마그네트론 회전 캐소드 스퍼터링 장치 등에 있어서 본 발명의 세라믹스 원통형 스퍼터링 타겟재를 사용하는 경우, 타겟재 전체에 분할부가 존재하지 않거나, 또는 그 수가 적으므로, 스퍼터링 중에 아킹이나 파티클의 발생이 적다.
CERAMIC CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
본 발명은, 길이가 500㎜ 이상이며 상대 밀도가 95% 이상이며, 일체품인 것을 특징으로 하는 세라믹스 원통형 스퍼터링 타겟재이다. 본 발명의 세라믹스 원통형 스퍼터링 타겟재는, 고밀도이며 500㎜ 이상의 길이를 갖는 일체품이므로, 다수의 스퍼터링 타겟재를 중첩하여 장척으로 하여 사용할 필요가 없다. 이 때문에, 마그네트론 회전 캐소드 스퍼터링 장치 등에 있어서 본 발명의 세라믹스 원통형 스퍼터링 타겟재를 사용하는 경우, 타겟재 전체에 분할부가 존재하지 않거나, 또는 그 수가 적으므로, 스퍼터링 중에 아킹이나 파티클의 발생이 적다.
CERAMIC CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
세라믹스 원통형 스퍼터링 타겟재 및 그 제조 방법
MASAKI TAKANORI (author) / ISHIDA SHINTARO (author)
2016-08-24
Patent
Electronic Resource
Korean
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME
| European Patent Office | 2019
CYLINDRICAL TYPE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
| European Patent Office | 2017
CYLINDRICAL TYPE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
| European Patent Office | 2018
HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2017