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CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL AND CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET CONFIGURED BY JOINING ONE OR MORE CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET MATERIALS TO BACKING TUBE
The purpose of the present invention is to provide a cylindrical ceramic-based sputtering target material and a cylindrical ceramic-based sputtering target in which the cylindrical ceramic-based sputtering target material is joined to a backing tube, whereby it is possible to suppress the occurrence of arcing, nodules, and cracks, which were not possible to avoid merely by individually setting various bulk characteristics (crystal grain size, relative density, electrical conductivity, etc.) to appropriate ranges. Provided is a cylindrical ceramic-based sputtering target material, wherein a color difference ∆E*ab is less than 1.0 when each of four divided regions of a target divided into four regions in the axial direction thereof are further partitioned into regions at intervals of 0°, 90°, 180°, and 270° in the circumferential direction and the color difference ∆E*ab is measured in each region.
La présente invention a pour objet un matériau de cible de pulvérisation cathodique cylindrique à base de céramique et une cible de pulvérisation cathodique à base de céramique cylindrique dans laquelle le matériau de cible de pulvérisation cathodique à base de céramique cylindrique est uni à un tube de support, ce qui permet de supprimer l'apparition d'arcs électriques, de nodules et de fissures, qui ne pouvaient pas être évités simplement par le réglage individuel de diverses caractéristiques apparentes (taille des grains cristallins, densité relative, conductivité électrique, etc.) sur des plages appropriées. À cet effet l'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique à base de céramique cylindrique, une différence de couleur ∆E*ab étant inférieure à 1,0 lorsque chacune des quatre régions divisées d'une cible divisée en quatre régions dans sa direction axiale est encore divisée en régions à des intervalles de 0°, 90°, 180° et 270° dans la direction de la circonférence et la différence de couleur ∆E*ab est mesurée dans chaque région.
本発明の目的は、各種バルク特性(結晶粒径、相対密度、導電率、など)を個別に好適な範囲にするだけでは防ぐことのできなかったアーキング発生、ノジュール発生、クラック発生を抑えることが可能な円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材及びこれをバッキングチューブに接合した円筒形セラミックス系スパッタリングターゲットを提供することを目的とする。 円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材において、ターゲットの軸方向に4分割された領域において、4分割された領域毎に、さらに4分割された領域における円周方向に0°、90°、180°及び270°の間隔で領域を区切り、各領域内で色差ΔE*abを測定した場合、色差ΔE*abが1.0未満である円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材が提供される。
CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL AND CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET CONFIGURED BY JOINING ONE OR MORE CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET MATERIALS TO BACKING TUBE
The purpose of the present invention is to provide a cylindrical ceramic-based sputtering target material and a cylindrical ceramic-based sputtering target in which the cylindrical ceramic-based sputtering target material is joined to a backing tube, whereby it is possible to suppress the occurrence of arcing, nodules, and cracks, which were not possible to avoid merely by individually setting various bulk characteristics (crystal grain size, relative density, electrical conductivity, etc.) to appropriate ranges. Provided is a cylindrical ceramic-based sputtering target material, wherein a color difference ∆E*ab is less than 1.0 when each of four divided regions of a target divided into four regions in the axial direction thereof are further partitioned into regions at intervals of 0°, 90°, 180°, and 270° in the circumferential direction and the color difference ∆E*ab is measured in each region.
La présente invention a pour objet un matériau de cible de pulvérisation cathodique cylindrique à base de céramique et une cible de pulvérisation cathodique à base de céramique cylindrique dans laquelle le matériau de cible de pulvérisation cathodique à base de céramique cylindrique est uni à un tube de support, ce qui permet de supprimer l'apparition d'arcs électriques, de nodules et de fissures, qui ne pouvaient pas être évités simplement par le réglage individuel de diverses caractéristiques apparentes (taille des grains cristallins, densité relative, conductivité électrique, etc.) sur des plages appropriées. À cet effet l'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique à base de céramique cylindrique, une différence de couleur ∆E*ab étant inférieure à 1,0 lorsque chacune des quatre régions divisées d'une cible divisée en quatre régions dans sa direction axiale est encore divisée en régions à des intervalles de 0°, 90°, 180° et 270° dans la direction de la circonférence et la différence de couleur ∆E*ab est mesurée dans chaque région.
本発明の目的は、各種バルク特性(結晶粒径、相対密度、導電率、など)を個別に好適な範囲にするだけでは防ぐことのできなかったアーキング発生、ノジュール発生、クラック発生を抑えることが可能な円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材及びこれをバッキングチューブに接合した円筒形セラミックス系スパッタリングターゲットを提供することを目的とする。 円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材において、ターゲットの軸方向に4分割された領域において、4分割された領域毎に、さらに4分割された領域における円周方向に0°、90°、180°及び270°の間隔で領域を区切り、各領域内で色差ΔE*abを測定した場合、色差ΔE*abが1.0未満である円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材が提供される。
CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL AND CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET CONFIGURED BY JOINING ONE OR MORE CYLINDRICAL CERAMIC-BASED SPUTTERING TARGET MATERIALS TO BACKING TUBE
MATÉRIAU DE CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE À BASE DE CÉRAMIQUE CYLINDRIQUE ET CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE À BASE DE CÉRAMIQUE CYLINDRIQUE FORMÉE PAR L'UNION D'UN OU PLUSIEURS MATÉRIAUX DE CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE À BASE DE CÉRAMIQUE CYLINDRIQUE À UN TUBE DE SUPPORT
円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材及び円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット材をバッキングチューブに1つ以上接合させることで構成される円筒形セラミックス系スパッタリングターゲット
TATENO SATORU (author)
2017-08-03
Patent
Electronic Resource
Japanese
HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL, AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
European Patent Office | 2016
|HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
European Patent Office | 2017
|CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
European Patent Office | 2019
|European Patent Office | 2016
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