A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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OXIDE SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD THEREOF AND OXIDE THIN FILM FORMED USING THE SPUTTERING TARGET
MoO2와 In2O3를 함유하고, Mo 함유 비율이 원자비로 0.1≤Mo/(In+Mo)≤0.8을 만족시키고, 상대 밀도가 80％ 이상인 것을 특징으로 하는 산화물 스퍼터링 타깃. 산화인듐분과 산화몰리브덴분을, 환원 가스 분위기 또는 불활성 분위기에서 핫 프레스 소결하는 것을 특징으로 하는 산화물 스퍼터링 타깃의 제조 방법. 본 발명은, 밀도가 높은 산화물 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
Provided is an oxide sputtering target characterized in that MoO2 and In2O3 are contained, the Mo content ratio satisfies 0.1≤Mo/(In+Mo)≤0.8 in atomic ratio, and the relative density is 80% or more. Provided is a production method for an oxide sputtering target, the method being characterized by hot-press sintering an indium oxide powder and a molybdenum oxide powder in a reducing gas atmosphere or an inert atmosphere. The present invention addresses the problem of providing an oxide sputtering target which has a high density, and a production method therefor.
OXIDE SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD THEREOF AND OXIDE THIN FILM FORMED USING THE SPUTTERING TARGET
MoO2와 In2O3를 함유하고, Mo 함유 비율이 원자비로 0.1≤Mo/(In+Mo)≤0.8을 만족시키고, 상대 밀도가 80％ 이상인 것을 특징으로 하는 산화물 스퍼터링 타깃. 산화인듐분과 산화몰리브덴분을, 환원 가스 분위기 또는 불활성 분위기에서 핫 프레스 소결하는 것을 특징으로 하는 산화물 스퍼터링 타깃의 제조 방법. 본 발명은, 밀도가 높은 산화물 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
Provided is an oxide sputtering target characterized in that MoO2 and In2O3 are contained, the Mo content ratio satisfies 0.1≤Mo/(In+Mo)≤0.8 in atomic ratio, and the relative density is 80% or more. Provided is a production method for an oxide sputtering target, the method being characterized by hot-press sintering an indium oxide powder and a molybdenum oxide powder in a reducing gas atmosphere or an inert atmosphere. The present invention addresses the problem of providing an oxide sputtering target which has a high density, and a production method therefor.
OXIDE SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD THEREOF AND OXIDE THIN FILM FORMED USING THE SPUTTERING TARGET
산화물 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법, 그리고 당해 산화물 스퍼터링 타깃을 사용하여 성막한 산화물 박막
NARA ATSUSHI (author) / MUNEYASU KEI (author)
2021-09-27
Patent
Electronic Resource
Korean
European Patent Office | 2022
| European Patent Office | 2020
| European Patent Office | 2017
OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM USING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2015
OXIDE SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF OXIDE SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2018