A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES AND METHOD FOR REGENERATING ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES
This electrode plate for plasma processing apparatuses, which has a vent hole for having a gas for plasma generation pass therethrough, comprises a substrate and a coating layer that is provided on at least one surface of the substrate; and the substrate is formed from a material that has a higher plasma resistance than a material that constitutes the coating layer.
Cette invention concerne une plaque d'électrode pour appareils de traitement au plasma, qui comprend un trou d'évent laisser passer un gaz pour la génération de plasma, et comprend un substrat et une couche de revêtement qui est disposée sur au moins une surface du substrat. Le substrat est formé à partir d'un matériau qui présente une résistance au plasma supérieure à celle d'un matériau qui constitue la couche de revêtement.
本発明のプラズマ生成用のガスを通過させる通気孔を有するプラズマ処理装置用電極板は、基材と、前記基材の少なくとも一方の表面に設けられたコーティング層とを有し、前記基材は、前記コーティング層を形成している材料よりも耐プラズマ性が高い材料により形成されている。
ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES AND METHOD FOR REGENERATING ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES
This electrode plate for plasma processing apparatuses, which has a vent hole for having a gas for plasma generation pass therethrough, comprises a substrate and a coating layer that is provided on at least one surface of the substrate; and the substrate is formed from a material that has a higher plasma resistance than a material that constitutes the coating layer.
Cette invention concerne une plaque d'électrode pour appareils de traitement au plasma, qui comprend un trou d'évent laisser passer un gaz pour la génération de plasma, et comprend un substrat et une couche de revêtement qui est disposée sur au moins une surface du substrat. Le substrat est formé à partir d'un matériau qui présente une résistance au plasma supérieure à celle d'un matériau qui constitue la couche de revêtement.
本発明のプラズマ生成用のガスを通過させる通気孔を有するプラズマ処理装置用電極板は、基材と、前記基材の少なくとも一方の表面に設けられたコーティング層とを有し、前記基材は、前記コーティング層を形成している材料よりも耐プラズマ性が高い材料により形成されている。
ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES AND METHOD FOR REGENERATING ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUSES
PLAQUE D'ÉLECTRODE POUR APPAREILS DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE RÉGÉNÉRATION DE PLAQUE D'ÉLECTRODE POUR APPAREILS DE TRAITEMENT AU PLASMA
プラズマ処理装置用電極板およびプラズマ処理装置用電極板の再生方法
NOMURA SATOSHI (author) / FUJIMORI SYUJI (author)
2018-08-23
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2019
| European Patent Office | 2019
ELECTRODE PLATE FOR PLASMA TREATMENT DEVICE AND METHOD FOR REGENERATING THE SAME
| European Patent Office | 2018
ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
| European Patent Office | 2019
Recovery processing method for spent battery electrode plate
| European Patent Office | 2025