A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICES, AND PLASMA TREATMENT DEVICE
Provided are: a member for plasma treatment devices, which has excellent plasma resistance and high durability; and a plasma treatment device. The member for plasma treatment devices comprises a base material 2 containing a first element that is a metal element or a metalloid element and a film 3 positioned on the base material and containing yttrium oxide as the main component, wherein, in the film 3, the area ratio of yttrium oxide crystal grains that are oriented at a misorientation angle from {111} orientation of the yttrium oxide crystal lattice plane of within ±10° is 45% or more.
L'invention concerne : un élément pour dispositifs de traitement au plasma qui présente une excellente résistance au plasma et une durabilité élevée ; et un dispositif de traitement au plasma. L'élément pour dispositifs de traitement au plasma comprend un matériau de base (2), contenant un premier élément qui est un élément métallique ou un élément métalloïde, et un film (3) positionné sur le matériau de base et contenant de l'oxyde d'yttrium en tant que constituant principal. Dans le film (3), le rapport surfacique des grains cristallins d'oxyde d'yttrium qui présentent un angle d'orientation s'écartant de ± 10° de l'orientation {111} du plan de réseau cristallin d'oxyde d'yttrium est supérieur ou égal à 45 %.
耐プラズマ性に優れ、耐久性の高いプラズマ処理装置用部材およびプラズマ処理装置を提供する。金属元素または半金属元素である第１元素を含む基材２と、該基材上に位置する酸化イットリウムを主成分とする膜３と、を備えてなり、膜３は、酸化イットリウムの結晶格子面の{１１１}方向からのずれ角度が±１０°以内に配向する酸化イットリウムの結晶粒子の面積率が４５％以上である。
MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICES, AND PLASMA TREATMENT DEVICE
Provided are: a member for plasma treatment devices, which has excellent plasma resistance and high durability; and a plasma treatment device. The member for plasma treatment devices comprises a base material 2 containing a first element that is a metal element or a metalloid element and a film 3 positioned on the base material and containing yttrium oxide as the main component, wherein, in the film 3, the area ratio of yttrium oxide crystal grains that are oriented at a misorientation angle from {111} orientation of the yttrium oxide crystal lattice plane of within ±10° is 45% or more.
L'invention concerne : un élément pour dispositifs de traitement au plasma qui présente une excellente résistance au plasma et une durabilité élevée ; et un dispositif de traitement au plasma. L'élément pour dispositifs de traitement au plasma comprend un matériau de base (2), contenant un premier élément qui est un élément métallique ou un élément métalloïde, et un film (3) positionné sur le matériau de base et contenant de l'oxyde d'yttrium en tant que constituant principal. Dans le film (3), le rapport surfacique des grains cristallins d'oxyde d'yttrium qui présentent un angle d'orientation s'écartant de ± 10° de l'orientation {111} du plan de réseau cristallin d'oxyde d'yttrium est supérieur ou égal à 45 %.
耐プラズマ性に優れ、耐久性の高いプラズマ処理装置用部材およびプラズマ処理装置を提供する。金属元素または半金属元素である第１元素を含む基材２と、該基材上に位置する酸化イットリウムを主成分とする膜３と、を備えてなり、膜３は、酸化イットリウムの結晶格子面の{１１１}方向からのずれ角度が±１０°以内に配向する酸化イットリウムの結晶粒子の面積率が４５％以上である。
MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICES, AND PLASMA TREATMENT DEVICE
ÉLÉMENT POUR DISPOSITIFS DE TRAITEMENT AU PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
プラズマ処理装置用部材およびプラズマ処理装置
ISHIKAWA KAZUHIRO (author) / HINO TAKASHI (author) / SAITO SHUICHI (author)
2020-10-29
Patent
Electronic Resource
Japanese
PLASMA RESISTANT MEMBER, PLASMA TREATMENT DEVICE COMPONENT, AND PLASMA TREATMENT DEVICE
| European Patent Office | 2023
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2019
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2019
| European Patent Office | 2018
MEMBER FOR USE IN PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE PROVIDED THEREWITH
| European Patent Office | 2024