A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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METHODS AND APPARATUS FOR PLASMA SPRAYING SILICON CARBIDE COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER APPLICATIONS
Methods and apparatus for producing bulk silicon carbide and producing silicon carbide coatings are provided herein. The method includes feeding a mixture of silicon carbide and ceramic into a plasma sprayer. The plasma generates a stream towards a substrate forming a bulk material or optionally a coating on the substrate such as an article upon contact therewith. In embodiments, the substrate can be removed, leaving a component part fabricated from bulk silicon carbide.
L'invention concerne des procédés et un appareil de production de carbure de silicium massif et de production de revêtements en carbure de silicium. Le procédé comprend l'apport d'un mélange de carbure de silicium et de céramique dans un pulvérisateur par plasma. Le plasma génère un flux vers un substrat formant un matériau massif ou éventuellement un revêtement sur le substrat tel qu'un article au contact de celui-ci. Dans des modes de réalisation, le substrat peut être retiré, laissant une partie constitutive fabriquée à partir de carbure de silicium massif.
METHODS AND APPARATUS FOR PLASMA SPRAYING SILICON CARBIDE COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER APPLICATIONS
Methods and apparatus for producing bulk silicon carbide and producing silicon carbide coatings are provided herein. The method includes feeding a mixture of silicon carbide and ceramic into a plasma sprayer. The plasma generates a stream towards a substrate forming a bulk material or optionally a coating on the substrate such as an article upon contact therewith. In embodiments, the substrate can be removed, leaving a component part fabricated from bulk silicon carbide.
L'invention concerne des procédés et un appareil de production de carbure de silicium massif et de production de revêtements en carbure de silicium. Le procédé comprend l'apport d'un mélange de carbure de silicium et de céramique dans un pulvérisateur par plasma. Le plasma génère un flux vers un substrat formant un matériau massif ou éventuellement un revêtement sur le substrat tel qu'un article au contact de celui-ci. Dans des modes de réalisation, le substrat peut être retiré, laissant une partie constitutive fabriquée à partir de carbure de silicium massif.
METHODS AND APPARATUS FOR PLASMA SPRAYING SILICON CARBIDE COATINGS FOR SEMICONDUCTOR CHAMBER APPLICATIONS
PROCÉDÉS ET APPAREIL DE PULVÉRISATION PAR PLASMA DE REVÊTEMENTS EN CARBURE DE SILICIUM POUR DES APPLICATIONS DE CHAMBRE À SEMI-CONDUCTEURS
CHEN YIKAI (author) / PAL ANIRUDDHA (author) / CHAUDHARI SAURABH M (author) / YANG YAO-HUNG (author) / SALIMIAN SIAMAK (author) / CHO TOM K (author)
2021-08-05
Patent
Electronic Resource
English
| European Patent Office | 2023
| British Library Online Contents | 2006
| British Library Online Contents | 2006
Fabrication of Silicon Nitride Thick Coatings by Reactive RF Plasma Spraying
| British Library Online Contents | 2004
A Low Pressure Plasma Spraying Chamber for Laboratory Scale Production of Fine Powders and Coatings
| British Library Online Contents | 1995