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ZINC-DOPED INDIUM OXIDE POWDER, SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND PREPARATION METHODS THEREFOR
Provided in the present invention are a zinc-doped indium oxide powder, a sputtering target material, and preparation methods therefor, belonging to the technical field of new materials. In the present invention, a precursor powder of a zinc-doped indium oxide is synthesized in one step using a hydrothermal method, the reaction system is stable, and the resulting zinc-doped indium oxide powder has a high purity, a uniform crystal form distribution, good dispersity and a high crystallinity; and a sputtering target material resulting from sintering of the powder has a small grain size, a uniform distribution and a high density. The present application is simple and convenient in the whole process from the preparation of the powder to forming and sintering processes, low in terms of cost, and suitable for industrial production.
La présente invention concerne une poudre d'oxyde d'indium dopé au zinc, un matériau cible de pulvérisation, et des procédés de préparation correspondants, appartenant au domaine technique des nouveaux matériaux. Dans la présente invention, une poudre précurseur d'un oxyde d'indium dopé au zinc est synthétisée en une étape au moyen d'un procédé hydrothermique, le système de réaction est stable, et la poudre d'oxyde d'indium dopé au zinc résultante a une pureté élevée, une distribution de forme cristalline uniforme, une bonne dispersité et une cristallinité élevée ; et un matériau cible de pulvérisation résultant du frittage de la poudre est de petite granulométrie, présente une distribution uniforme et une densité élevée. La présente invention est simple et pratique dans la totalité du procédé, de la préparation de la poudre aux processus de formage et frittage, présente de faibles coûts, et est appropriée à une production industrielle.
本发明提供了一种锌掺杂氧化铟粉体、溅射靶材及其制备方法，属于新材料技术领域。本发明采用水热法一步合成了锌掺杂氧化铟的前驱体粉末，反应体系稳定，所得锌掺杂氧化铟粉体纯度高、晶型分布均匀，分散性好、结晶度高；该粉体烧结后所得溅射靶材晶粒尺寸细小、分布均匀、致密度高。本申请从粉体的制备，到成形及烧结工艺，整个流程简便，成本低，适于工业化生产。
ZINC-DOPED INDIUM OXIDE POWDER, SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND PREPARATION METHODS THEREFOR
Provided in the present invention are a zinc-doped indium oxide powder, a sputtering target material, and preparation methods therefor, belonging to the technical field of new materials. In the present invention, a precursor powder of a zinc-doped indium oxide is synthesized in one step using a hydrothermal method, the reaction system is stable, and the resulting zinc-doped indium oxide powder has a high purity, a uniform crystal form distribution, good dispersity and a high crystallinity; and a sputtering target material resulting from sintering of the powder has a small grain size, a uniform distribution and a high density. The present application is simple and convenient in the whole process from the preparation of the powder to forming and sintering processes, low in terms of cost, and suitable for industrial production.
La présente invention concerne une poudre d'oxyde d'indium dopé au zinc, un matériau cible de pulvérisation, et des procédés de préparation correspondants, appartenant au domaine technique des nouveaux matériaux. Dans la présente invention, une poudre précurseur d'un oxyde d'indium dopé au zinc est synthétisée en une étape au moyen d'un procédé hydrothermique, le système de réaction est stable, et la poudre d'oxyde d'indium dopé au zinc résultante a une pureté élevée, une distribution de forme cristalline uniforme, une bonne dispersité et une cristallinité élevée ; et un matériau cible de pulvérisation résultant du frittage de la poudre est de petite granulométrie, présente une distribution uniforme et une densité élevée. La présente invention est simple et pratique dans la totalité du procédé, de la préparation de la poudre aux processus de formage et frittage, présente de faibles coûts, et est appropriée à une production industrielle.
本发明提供了一种锌掺杂氧化铟粉体、溅射靶材及其制备方法，属于新材料技术领域。本发明采用水热法一步合成了锌掺杂氧化铟的前驱体粉末，反应体系稳定，所得锌掺杂氧化铟粉体纯度高、晶型分布均匀，分散性好、结晶度高；该粉体烧结后所得溅射靶材晶粒尺寸细小、分布均匀、致密度高。本申请从粉体的制备，到成形及烧结工艺，整个流程简便，成本低，适于工业化生产。
ZINC-DOPED INDIUM OXIDE POWDER, SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND PREPARATION METHODS THEREFOR
POUDRE D'OXYDE D'INDIUM DOPÉ AU ZINC, MATÉRIAU CIBLE DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉS DE PRÉPARATION CORRESPONDANTS
一种锌掺杂氧化铟粉体、溅射靶材及其制备方法
LIU YANG (author) / SUN BENSHUANG (author) / ZENG XUEYUN (author) / LIU CHAOFEI (author) / LIU XIAOKAI (author) / WANG ZHIJUN (author) / LIU MIAO (author) / CHEN JIE (author) / SHU YONGCHUN (author) / HE JILIN (author)
2023-06-08
Patent
Electronic Resource
Chinese
Zinc-doped indium oxide powder, sputtering target material and preparation method thereof
| European Patent Office | 2022
| European Patent Office | 2023
Preparation method of high-density indium tin zinc oxide sputtering target material
| European Patent Office | 2024
| European Patent Office | 2022