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METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SUBSTRATE
The present invention improves the productivity of a silicon nitride substrate in cases where the silicon nitride substrate is produced by subjecting a multilayer body, which is obtained by stacking a plurality of sheet-like molded bodies that contain silicon, to a nitriding treatment. As a means therefor, the present invention employs a method for producing a silicon nitride substrate, wherein a multilayer body, which is obtained by stacking 5 to 20 sheet-like molded bodies that contain silicon and have a sheet form, is nitrided by being conveyed from a carry-in port to a carry-out port of a continuous heating furnace that is provided with the carry-in port and the carry-out port, a heating mechanism that heats the space between the carry-in port and the carry-out port, and a nitrogen supply mechanism that supplies nitrogen to the space between the carry-in port and the carry-out port.
La présente invention améliore la productivité d'un substrat en nitrure de silicium dans les cas où le substrat en nitrure de silicium est produit en soumettant un corps multicouche, qui est obtenu par empilement d'une pluralité de corps moulés de type feuille qui contiennent du silicium, à un traitement de nitruration. Pour ce faire, la présente invention utilise un procédé de production d'un substrat en nitrure de silicium, un corps multicouche, qui est obtenu par empilement de 5 à 20 corps moulés de type feuille qui contiennent du silicium et ayant une forme de feuille, étant nitruré en étant transporté d'un orifice d'entrée à un orifice de sortie d'un four de chauffage en continu qui est pourvu de l'orifice d'entrée et de l'orifice de sortie, un mécanisme de chauffage qui chauffe l'espace entre l'orifice d'entrée et l'orifice de sortie, et un mécanisme d'alimentation en azote qui fournit de l'azote à l'espace entre l'orifice d'entrée et l'orifice de sortie.
珪素を含むシート状成形体を複数重ねた積層体を窒化処理して窒化珪素基板を製造する場合において、窒化珪素基板の生産性を向上する。その手段として、搬入口および搬出口と、搬入口と搬出口との間を加熱する加熱機構と、搬入口と搬出口との間に窒素を供給する窒素供給機構とを備えた連続式加熱炉に、シート状であり珪素を含むシート状成形体が5枚以上20枚以下積層された積層体を、搬入口から搬出口まで搬送することにより窒化する、窒化珪素基板の製造方法を用いる。
METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SUBSTRATE
The present invention improves the productivity of a silicon nitride substrate in cases where the silicon nitride substrate is produced by subjecting a multilayer body, which is obtained by stacking a plurality of sheet-like molded bodies that contain silicon, to a nitriding treatment. As a means therefor, the present invention employs a method for producing a silicon nitride substrate, wherein a multilayer body, which is obtained by stacking 5 to 20 sheet-like molded bodies that contain silicon and have a sheet form, is nitrided by being conveyed from a carry-in port to a carry-out port of a continuous heating furnace that is provided with the carry-in port and the carry-out port, a heating mechanism that heats the space between the carry-in port and the carry-out port, and a nitrogen supply mechanism that supplies nitrogen to the space between the carry-in port and the carry-out port.
La présente invention améliore la productivité d'un substrat en nitrure de silicium dans les cas où le substrat en nitrure de silicium est produit en soumettant un corps multicouche, qui est obtenu par empilement d'une pluralité de corps moulés de type feuille qui contiennent du silicium, à un traitement de nitruration. Pour ce faire, la présente invention utilise un procédé de production d'un substrat en nitrure de silicium, un corps multicouche, qui est obtenu par empilement de 5 à 20 corps moulés de type feuille qui contiennent du silicium et ayant une forme de feuille, étant nitruré en étant transporté d'un orifice d'entrée à un orifice de sortie d'un four de chauffage en continu qui est pourvu de l'orifice d'entrée et de l'orifice de sortie, un mécanisme de chauffage qui chauffe l'espace entre l'orifice d'entrée et l'orifice de sortie, et un mécanisme d'alimentation en azote qui fournit de l'azote à l'espace entre l'orifice d'entrée et l'orifice de sortie.
珪素を含むシート状成形体を複数重ねた積層体を窒化処理して窒化珪素基板を製造する場合において、窒化珪素基板の生産性を向上する。その手段として、搬入口および搬出口と、搬入口と搬出口との間を加熱する加熱機構と、搬入口と搬出口との間に窒素を供給する窒素供給機構とを備えた連続式加熱炉に、シート状であり珪素を含むシート状成形体が5枚以上20枚以下積層された積層体を、搬入口から搬出口まで搬送することにより窒化する、窒化珪素基板の製造方法を用いる。
METHOD FOR PRODUCING SILICON NITRIDE SUBSTRATE
PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT EN NITRURE DE SILICIUM
窒化珪素基板の製造方法
SHIMADA KEI (author) / IMAMURA HISAYUKI (author)
2023-10-05
Patent
Electronic Resource
Japanese
Silicon nitride substrate and method for producing silicon nitride substrate
European Patent Office | 2017
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