A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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SUBTRATE COMPRISING TANTALUM COATING
In a first aspect, the present disclosure relates to a gas-phase deposition process for coating a carbonaceous substrate with a tantalum carbide coating, wherein the process comprises a coating step. The coating step comprises placing a carbonaceous substrate into a reaction chamber, heating the reaction chamber to a temperature between about 1100°C to about 1500 °C for a duration of between about 1 h to about 24 h. The coating step further comprises supplying a process gas to the reaction chamber, wherein the process gas comprises a halide containing species and wherein for at least 15 minutes after the start of the process, the process gas comprises less than 4 at.-% of carbon and less than 10 vol.-% of H2. Further, the coating step comprises and supplying a tantalum containing species to the reaction chamber, or placing a solid comprising tantalum into the reaction chamber. Alternatively, the process comprises placing a solid comprising a tantalum halide into the reaction chamber.
Dans un premier aspect, la présente invention concerne un procédé de dépôt en phase gazeuse destiné à revêtir un substrat carboné par un revêtement de carbure de tantale, le procédé comprenant une étape de revêtement. L'étape de revêtement comprend le placement d'un substrat carboné dans une chambre de réaction, le chauffage de la chambre de réaction à une température entre environ 1100°C et environ 1500°C pendant une durée entre environ 1 h et environ 24 h. L'étape de revêtement comprend en outre la fourniture d'un gaz de traitement à la chambre de réaction, le gaz de traitement comprenant une espèce contenant un halogénure et pendant au moins 15 minutes après le début du procédé, le gaz de traitement comprenant moins de 4 % en atome de carbone et moins de 10 % en volume de H2. En outre, l'étape de revêtement comprend la fourniture d'une espèce contenant du tantale à la chambre de réaction ou le placement d'un solide comprenant du tantale dans la chambre de réaction. En variante, le procédé comprend le placement d'un solide comprenant un halogénure de tantale dans la chambre de réaction.
SUBTRATE COMPRISING TANTALUM COATING
In a first aspect, the present disclosure relates to a gas-phase deposition process for coating a carbonaceous substrate with a tantalum carbide coating, wherein the process comprises a coating step. The coating step comprises placing a carbonaceous substrate into a reaction chamber, heating the reaction chamber to a temperature between about 1100°C to about 1500 °C for a duration of between about 1 h to about 24 h. The coating step further comprises supplying a process gas to the reaction chamber, wherein the process gas comprises a halide containing species and wherein for at least 15 minutes after the start of the process, the process gas comprises less than 4 at.-% of carbon and less than 10 vol.-% of H2. Further, the coating step comprises and supplying a tantalum containing species to the reaction chamber, or placing a solid comprising tantalum into the reaction chamber. Alternatively, the process comprises placing a solid comprising a tantalum halide into the reaction chamber.
Dans un premier aspect, la présente invention concerne un procédé de dépôt en phase gazeuse destiné à revêtir un substrat carboné par un revêtement de carbure de tantale, le procédé comprenant une étape de revêtement. L'étape de revêtement comprend le placement d'un substrat carboné dans une chambre de réaction, le chauffage de la chambre de réaction à une température entre environ 1100°C et environ 1500°C pendant une durée entre environ 1 h et environ 24 h. L'étape de revêtement comprend en outre la fourniture d'un gaz de traitement à la chambre de réaction, le gaz de traitement comprenant une espèce contenant un halogénure et pendant au moins 15 minutes après le début du procédé, le gaz de traitement comprenant moins de 4 % en atome de carbone et moins de 10 % en volume de H2. En outre, l'étape de revêtement comprend la fourniture d'une espèce contenant du tantale à la chambre de réaction ou le placement d'un solide comprenant du tantale dans la chambre de réaction. En variante, le procédé comprend le placement d'un solide comprenant un halogénure de tantale dans la chambre de réaction.
SUBTRATE COMPRISING TANTALUM COATING
SUBSTRAT COMPRENANT UN REVÊTEMENT DE TANTALE
MILITZER CHRISTIAN (author) / WIJAYAWARDHANA CHARLES (author) / FORSBERG URBAN (author) / PEDERSEN HENRIK (author)
2024-02-01
Patent
Electronic Resource
English
Memufacturing method of High thermal conductivity AlN subtrate
| European Patent Office | 2020