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    Titel:

    Direct projection patterning of aluminum on the SiO~2 surface by using synchrotron radiation induced growth initiation of thermal chemical vapor deposition

    Beteiligte:

    Uesugi, F. (Autor:in) / Nishiyama, I. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 62 ; 151

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1992

    Format / Umfang:

    151 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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