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    Titel:

    A model for low pressure chemical vapor deposition in a hot-wall tubular reactor

    Beteiligte:

    Houf, W. G. (Autor:in) / Grcar, J. F. (Autor:in) / Breiland, W. G. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 17 ; 163

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1993

    Format / Umfang:

    163 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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