Simulation of a vertical reactor for high pressure organometallic chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Simulation of a vertical reactor for high pressure organometallic chemical vapor deposition

Kepler, G. M. / Hopfner, C. / Scroggs, J. S. / Bachmann, K. J.

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Titel:

Simulation of a vertical reactor for high pressure organometallic chemical vapor deposition

Beteiligte:

Kepler, G. M. (Autor:in) / Hopfner, C. (Autor:in) / Scroggs, J. S. (Autor:in) / Bachmann, K. J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 57 ; 11-19

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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