Laser etching of silicon by chlorine: effect of post-desorption collisions and chlorine in-diffusion on the laser desorption yield: Fid-Bau Portal

Laser etching of silicon by chlorine: effect of post-desorption collisions and chlorine in-diffusion on the laser desorption yield

Aliouchouche, A. / Boulmer, J. / Bourguignon, B. / Budin, J.-P.

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Titel:

Laser etching of silicon by chlorine: effect of post-desorption collisions and chlorine in-diffusion on the laser desorption yield

Beteiligte:

Aliouchouche, A. (Autor:in) / Boulmer, J. (Autor:in) / Bourguignon, B. (Autor:in) / Budin, J.-P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 69 ; 52

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

52 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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