Bulk and surface properties of RTCVD Si~3N~4 films for optical device applications: Fid-Bau Portal

Bulk and surface properties of RTCVD Si~3N~4 films for optical device applications

Lebland, F. / Wang, Z. Z. / Flicstein, J. / Licoppe, C.

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Titel:

Bulk and surface properties of RTCVD Si~3N~4 films for optical device applications

Beteiligte:

Lebland, F. (Autor:in) / Wang, Z. Z. (Autor:in) / Flicstein, J. (Autor:in) / Licoppe, C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 69 ; 198

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

198 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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