An X-ray photoelectron spectroscopy study of the thermal oxidation and nitridation of Si(100)-2 X 1 by NO~2: Fid-Bau Portal

An X-ray photoelectron spectroscopy study of the thermal oxidation and nitridation of Si(100)-2 X 1 by NO~2

Lutz, F. / Bischoff, J. L. / Kubler, L. / Bolmont, D.

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Titel:

An X-ray photoelectron spectroscopy study of the thermal oxidation and nitridation of Si(100)-2 X 1 by NO~2

Beteiligte:

Lutz, F. (Autor:in) / Bischoff, J. L. (Autor:in) / Kubler, L. (Autor:in) / Bolmont, D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 72 ; 427

Erscheinungsdatum:

01.01.1993

Format / Umfang:

427 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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