Anisotropic etching of silicon nitride at low temperatures by synchrotron radiation: Fid-Bau Portal

Anisotropic etching of silicon nitride at low temperatures by synchrotron radiation

Kitamura, O. / Goto, T. / Terakado, S. / Suzuki, S.

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Titel:

Anisotropic etching of silicon nitride at low temperatures by synchrotron radiation

Beteiligte:

Kitamura, O. (Autor:in) / Goto, T. (Autor:in) / Terakado, S. (Autor:in) / Suzuki, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 79/80 ; 122

Erscheinungsdatum:

01.01.1994

Format / Umfang:

122 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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