Oxide thin films formed during rotational AES sputter depth profiling of Ni/Cr multilayers using oxygen ions: Fid-Bau Portal

Oxide thin films formed during rotational AES sputter depth profiling of Ni/Cr multilayers using oxygen ions

Zalar, A. / Seibt, E. W. / Panjan, P.

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Titel:

Oxide thin films formed during rotational AES sputter depth profiling of Ni/Cr multilayers using oxygen ions

Beteiligte:

Zalar, A. (Autor:in) / Seibt, E. W. (Autor:in) / Panjan, P. (Autor:in) / Feldman, L. C. / Nishizawa, J. / Van der Weg, W. F.

Erschienen in:

A journal devoted to applied physics and chemistry of surfaces and interfaces ; 92-96

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 100/101

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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