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    Titel:

    Chemical etching of thin SiO~xC~yH~z films by post-deposition exposure to oxygen plasma

    Beteiligte:

    Vallee, C. (Autor:in) / Granier, A. (Autor:in) / Aumaille, K. (Autor:in) / Cardinaud, C. (Autor:in) / Goullet, A. (Autor:in) / Coulon, N. (Autor:in) / Turban, G. (Autor:in) / Boyd, I. W. / Perriere, J. / Stuke, M.

    Erschienen in:

    Proceedings of Symposium G on Surface Processing: Laser, Lamp, Plasma of the 1998 E-MRS Spring Conference - Strasbourg, France, June 16-1998 ; 57-61

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 138/139

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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