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Inductively coupled plasma etching of III-V semiconductors in BCl"3-based chemistries - II. InP, InGaAs, InGaAsP, InAs and AlInAs

Maeda, T. / Lee, J.W. / Shul, R.J. / Han, J. / Hong, J. / Lambers, E.S. / Pearton, S.J. / Abernathy, C.R. / Hobson, W.S.

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Titel:

Inductively coupled plasma etching of III-V semiconductors in BCl"3-based chemistries - II. InP, InGaAs, InGaAsP, InAs and AlInAs

Beteiligte:

Maeda, T. (Autor:in) / Lee, J.W. (Autor:in) / Shul, R.J. (Autor:in) / Han, J. (Autor:in) / Hong, J. (Autor:in) / Lambers, E.S. (Autor:in) / Pearton, S.J. (Autor:in) / Abernathy, C.R. (Autor:in) / Hobson, W.S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 143 ; 183-190

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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