Inductively coupled plasma etching of GaAs in Cl2/Ar, Cl2/Ar/O2 chemistries with photoresist mask: Fid-Bau Portal

Inductively coupled plasma etching of GaAs in Cl2/Ar, Cl2/Ar/O2 chemistries with photoresist mask

Liu, K. / Ren, X. m. / Huang, Y. q. / Cai, S. w. / Duan, X. f. / Wang, Q. / Kang, C. / Li, J. s. / Chen, Q. t. / Fei, J. r.

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Titel:

Inductively coupled plasma etching of GaAs in Cl2/Ar, Cl2/Ar/O2 chemistries with photoresist mask

Beteiligte:

Liu, K. (Autor:in) / Ren, X. m. (Autor:in) / Huang, Y. q. (Autor:in) / Cai, S. w. (Autor:in) / Duan, X. f. (Autor:in) / Wang, Q. (Autor:in) / Kang, C. (Autor:in) / Li, J. s. (Autor:in) / Chen, Q. t. (Autor:in) / Fei, J. r. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 356 ; 776-779

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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