Inductively coupled plasma etching of CoFeB, CoZr, CoSm and FeMn thin films in interhalogen mixtures: Fid-Bau Portal

Inductively coupled plasma etching of CoFeB, CoZr, CoSm and FeMn thin films in interhalogen mixtures

Cho, H. / Jung, K.B. / Hays, D.C. / Hahn, Y.B. / Feng, T. / Park, Y.D. / Childress, J.R. / Cadieu, F.J. / Rani, R. / Qian, X.R.

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Cho, H. / Jung, K.B. / Hays, D.C. / Hahn, Y.B. / Feng, T. / Park, Y.D. / Childress, J.R. / Cadieu, F.J. / Rani, R. / Qian, X.R.

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Cho, H. / Jung, K.B. / Hays, D.C. / Hahn, Y.B. / Feng, T. / Park, Y.D. / Childress, J.R. / Cadieu, F.J. / Rani, R. / Qian, X.R.

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Titel:

Inductively coupled plasma etching of CoFeB, CoZr, CoSm and FeMn thin films in interhalogen mixtures

Beteiligte:

Cho, H. (Autor:in) / Jung, K.B. (Autor:in) / Hays, D.C. (Autor:in) / Hahn, Y.B. (Autor:in) / Feng, T. (Autor:in) / Park, Y.D. (Autor:in) / Childress, J.R. (Autor:in) / Cadieu, F.J. (Autor:in) / Rani, R. (Autor:in) / Qian, X.R. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 60 ; 107 - 111

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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