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Selective dry etching using inductively coupled plasmas - Part II. InN/GaN and InN/AlN

Hays, D.C. / Cho, H. / Jung, K.B. / Hahn, Y.B. / Abernathy, C.R. / Pearton, S.J. / Ren, F. / Hun, J. / Shul, R.J.

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Titel:

Selective dry etching using inductively coupled plasmas - Part II. InN/GaN and InN/AlN

Beteiligte:

Hays, D.C. (Autor:in) / Cho, H. (Autor:in) / Jung, K.B. (Autor:in) / Hahn, Y.B. (Autor:in) / Abernathy, C.R. (Autor:in) / Pearton, S.J. (Autor:in) / Ren, F. (Autor:in) / Hun, J. (Autor:in) / Shul, R.J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 147 ; 134-139

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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