Characteristics of Ir etching using Ar/Cl2 inductively coupled plasmas: Fid-Bau Portal

Characteristics of Ir etching using Ar/Cl2 inductively coupled plasmas

PARK, S. G. / KIM, C. W. / SONG, H. Y. / KIM, H. W. / MYUNG, J. H. / JOO, S. / PARK, S. O. / LEE, K. M.

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Titel:

Characteristics of Ir etching using Ar/Cl2 inductively coupled plasmas

Beteiligte:

PARK, S. G. (Autor:in) / KIM, C. W. (Autor:in) / SONG, H. Y. (Autor:in) / KIM, H. W. (Autor:in) / MYUNG, J. H. (Autor:in) / JOO, S. (Autor:in) / PARK, S. O. (Autor:in) / LEE, K. M. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 40 ; 5015-5016

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

2 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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