Low-temperature deposition of titanium nitride films from dialkylhydrazine-based precursors: Fid-Bau Portal

Low-temperature deposition of titanium nitride films from dialkylhydrazine-based precursors

Scheper, J.T. / McKarns, P.J. / Lewkebandara, T.S. / Winter, C.H.

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Titel:

Low-temperature deposition of titanium nitride films from dialkylhydrazine-based precursors

Beteiligte:

Scheper, J.T. (Autor:in) / McKarns, P.J. (Autor:in) / Lewkebandara, T.S. (Autor:in) / Winter, C.H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 2 ; 149-157

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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