Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing: Fid-Bau Portal

Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing

Luby, S. / Jergel, M. / Anopchenko, A. / Aschentrup, A. / Hamelmann, F. / Majkova, E. / Kleineberg, U. / Heinzmann, U.

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Titel:

Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing

Beteiligte:

Luby, S. (Autor:in) / Jergel, M. (Autor:in) / Anopchenko, A. (Autor:in) / Aschentrup, A. (Autor:in) / Hamelmann, F. (Autor:in) / Majkova, E. (Autor:in) / Kleineberg, U. (Autor:in) / Heinzmann, U. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 150 ; 178-184

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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