Microcrystalline silicon deposited by the hot-wire CVD technique: Fid-Bau Portal

Microcrystalline silicon deposited by the hot-wire CVD technique

Guillet, J. / Niikura, C. / Bouree, J.E. / Kleider, J.P. / Longeaud, C. / Bruggemann, R.

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Titel:

Microcrystalline silicon deposited by the hot-wire CVD technique

Beteiligte:

Guillet, J. (Autor:in) / Niikura, C. (Autor:in) / Bouree, J.E. (Autor:in) / Kleider, J.P. (Autor:in) / Longeaud, C. (Autor:in) / Bruggemann, R. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 69-70 ; 284 - 288

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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