Structure of microcrystalline silicon films deposited at very low temperatures by hot-wire CVD: Fid-Bau Portal

Structure of microcrystalline silicon films deposited at very low temperatures by hot-wire CVD

Peiro, D. / Bertomeu, J. / Voz, C. / Fonrodona, M. / Soler, D. / Andreu, J.

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Titel:

Structure of microcrystalline silicon films deposited at very low temperatures by hot-wire CVD

Beteiligte:

Peiro, D. (Autor:in) / Bertomeu, J. (Autor:in) / Voz, C. (Autor:in) / Fonrodona, M. (Autor:in) / Soler, D. (Autor:in) / Andreu, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 69-70 ; 536 - 541

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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